Title of article
A new fabrication method for vanadium dioxide thin films deposited by ion beam sputtering
Author/Authors
Xingjian Yi، نويسنده , , Changhong Chen، نويسنده , , Luqin Liu، نويسنده , , Yingrui Wang، نويسنده , , Bifeng Xiong، نويسنده , , Hongchen Wang، نويسنده , , Sihai Chen، نويسنده ,
Issue Information
روزنامه با شماره پیاپی سال 2003
Pages
5
From page
137
To page
141
Keywords
Vanadium dioxide , Infrared thin film materials , VOx thin films
Journal title
Infrared Physics & Technology
Serial Year
2003
Journal title
Infrared Physics & Technology
Record number
327818
Link To Document