Title of article
Extension du procédé de dépôt de silicium par CVD en lit fluidisé à des conditions opératoires peu conventionnelles: dépôts sur poudres poreuses et/ou sous pression réduite
Author/Authors
J. R. Rodriguez Ruvalcaba، نويسنده , , B. Caussat، نويسنده , , M. Hémati et J.P. Couderc، نويسنده ,
Issue Information
روزنامه با شماره پیاپی سال 1999
Pages
6
From page
61
To page
66
Keywords
fluidization , CVD , Reduced pressure , Porous powders , Silane , Silicon
Journal title
Chemical Engineering Journal
Serial Year
1999
Journal title
Chemical Engineering Journal
Record number
365070
Link To Document