تاثير دماي بازپخت در ايجاد لايه هاي نازك پالاديم

The effect of annealing temperature in creating palladium thin films

در این پژوهش، لایه های نازك پالادیم با ضخامت تقریبی 50 نانومتر به وسیله عمل تبخیر با باریكه الكترونی در خلاء بالا (5*10-5mbar) بر روی زیر لایه های شیشه ای تخت نشانیده شد و سپس در دماهای 1273 و 873 كلوین به مدت 1 و 2 ساعت در معرض هوا در كوره بازپخت شدند. برای دست یافتن به اندازه دقیق ضخامت لایه های نازك، از آنالیز RBS استفاده شد. خواص فیزیكی و مورفولوژی آنها به صورت تابعی از دمای باز پخت به وسیله آنالیز طیف سنج پراش پرتو ایكس (XRD)، تصاویر میكروسكوپ الكترونی روبشی – گسیل میدانی (FE-SEM) و آنالیز EDX مورد تجزیه و تحلیل قرار گرفت. نتایج به دست آمده حاكی از آن است كه با افزایش دمای بازپخت خواص بلوری نمونه افزایش یافته و اندازه ذرات تغییر كرده است.

In this research, palladium thin films ,with a thickness of approximately 50 nm, was deposited on a flat glass substrate by electron beam evaporation in high vacuum and were annealed at air in the oven at temperatures of 873 and 1273 K for 1 and 2 hours. The RBS analysis was used to achieve a accurately measure the thickness of thin films. Physical properties and morphology of them were analyzed as a function of annealing temperature by X-ray diffraction spectroscopy(XRD), scanning electron microscopy-field emission (FE-SEM) and EDX analysis. The obtained results suggest that with increasing the annealing temperature, crystalline properties of and particle size were changed