بررسي خواص ساختاري و نوري لايه هاي نازك ITO تهيه شده بروش كندوپاش

Investigation on structural and optical properties of sputtered Indium tin oxide (ITO) thin films

در كار حاضر لايه هاي نازك اكسيد اينديوم آلاييده با قلع بر روي زير لايه هاي مولتي كريستالهاي سيليكون به روش كندوپاش RF و با استفاده از هدف سراميكي ( In2O3-SnO2 ،90-10wt.%) ITO لايه نشاني شده است. عمليات بازپخت تا دماي 500 درجه سانتيگراد در محيط خلاء صورت گرفته است. خواص ساختاري, نوري و الكتريكي نمونه ها توسط اناليزهاي UV/VIS ، XRD و روش مقاومت چهار ترمينالي مورد بررسي قرار گرفت. ملاحظه شد كه در دماي 500درجه سانتيگراد مي توان به بيشترين درصد عبور و كمترين مقاومت سطحي رسيد. با تحليل ساختار بلوري لايه ها مي توان گفت كه لايه هاي با بافت {111} نسبت به لايه هاي با بافت { 100 } داراي عبور نوري و رسانندگي الكتريكي و نيز تحرك بهتري هستند.

In this work, Indium tin oxide (ITO) thin films have been deposited on multi crystal silicon substrates by RF sputtering using ITO target ( In2O3-SnO2, 90-10 wt.%).The annealing process has been done to 500OC. The structural, optical and electrical properties have been analyzed using X-ray diffraction, UV/VIS spectrometer and four point probe method, respectively. It was shown that there is highest transmission and lowest sheet resistance, for 500OC. The XRD patterns show that there are higher optical transmission, conductivity and mobility for films oriented toward <111> texture compared with the films oriented toward <100> texture.