اثر بازپخت بر نانو ساختار بس لايه هاي نانو متري Co-Cu /Cu تهيه شده به روش الكترو انباشت

Influence of annealing on nanostructure of electrodeposited Co-Cu/Cu multilayers

بس لايه هاي Cu-Co/Cu به روش الكترو انباشت از الكتروليتي حاوي سولفات مس و سولفات كبالت در حضور H3BO3 بر روي بس بلور Ti با بافت (101) تهيه گرديدند . سپس در شرايط خلاء و در دماهاي مختلف بازپخت شدند . طيف XRD اين بس لايه ها به منظور بررسي ريز ساختار آنها مورد مطالعه قرار گرفت . نانو ساختار اين بس لايه ها توسط پراش پرتوي X و خواص سطحي آنها توسط ميكروسكوپ الكتروني روبشي مورد بررسي و مطالعه قرار گرفتند . نتايج نشان داد كه پس از بازپخت، در دماي 500° C ساختار بس لايه اي به يك ساختار آلياژي - دانهاي تبديل مي شود .

Electro deposited Co-Cu/Cu multilayers were prepared from a bath of CuSO 4 and CoSO 4 in presence of H3BO3 on polycrystalline (101) Ti substrates. Then they were annealed under vacuum condition in different temperatures. Their nano structures of the multilayers were studied using a high-angle X-ray diffractometer and their surface properties were also investigated by scanning electron microscope. The results showed a transition from multilayer to alloyed granular structure