بررسي تجربي تغييرات ضخامت لايه جريان در ولتاژهاي مختلف با اعمال ناخالصي در دستگاه پلاسماي كانوني سهند

Experimental Study of Current Sheath Thickness at different Voltages with adding Impurity in Sahand Plasma Focus Device

در اين مقاله ضخامت لايه جريان در ولتاژهاي كاري مختلف، بعنوان بخشي از ديناميك لايه جريان در دستگاه پلاسماي كانوني سهند بصورت تجربي مطالعه شده است. نتايج تجربي بدست آمده نشان مي دهد در ولتاژهاي پايين ميزان ضخامت لايه جريان نسبت به ولتاژهاي بالا بيشتر است و در ولتاژهاي بالاتر سير نزولي ضخامت لايه جريان آرامتر از ولتاژهاي پايين مي باشد. در ادامه اين مقاله جهت بررسي اثرات ناخالصي روي ضخامت لايه جريان درصدهاي مختلفي از گاز بي اثر را به گاز كاري مورد نظر ( آرگون) اضافه كرديم. نتايج بدست آمده نشان مي دهد هر چقدر ميزان ناخالصي بيشتر باشد ضخامت لايه جريان نيز بيشتر مي شود.

In this paper current sheath thickness as a part of current sheath velocity in Sahand plasma focus at different voltages is studied. Experimental results show that at lower voltages the current sheath thickness is larger than higher voltages. Decreasing of current sheath thickness at higher voltage is slowly comparison of lower voltage. In the other section of this paper with adding different percentages of noble gas to argon as a working gas the effect of impurity on the current sheath thickness is investigated. Results show that at higher percentages of impurity the thickness of current sheath is larger