رشد لايه‌هاي نازك تنگستن با استفاده از دستگاه پلاسماي كانوني

Deposition of Tungsten Thin Films Using Plasma Focus Device

در اين مقاله، فيلم‌هاي نازك تنگستن كه بر روي زيرلايۀ استيل 304 بوسيلۀ دستگاه پلاسماي كانوني نوع Mather كم انرژي (kJ 2) لايه نشاني شده‌اند بررسي شده است. نمونه‌ها در موقعيت‌هاي محوري مختلف (7 ،10 و13 سانتيمتر نسبت به نوك آند) با استفاده از تعداد شات‌هاي يكسان (25 شات) لايه نشاني شده‌اند. از روي دياگرامهاي پراش پرتو ايكس (XRD) فيلمهاي نازك لايه‌نشاني شده در موقعيت‌هاي محوري مختلف، تغييرات درجۀ بلورينگي نمونه‌ها بررسي و تحليل شده است. همچنين نتايج حاصل از ميكروسكوپ نيروي اتمي (AFM) جهت بررسي مورفولوژي سطح نمونه‌ها مورد استفاده قرار گرفته‌اند.

In this paper, we report the deposition of tungsten thin films on the stainless steel—304 substrates by using a low energy (2 kJ) Mather-type plasma focus (PF) device. The samples are deposited at different distances with respect to anode tip (7, 10 and 13 cm) and using same number of shots (25 shots). The degree of crystallinity of deposited thin films investigated by X-ray diffraction (XRD) analysis. Also, surface morphology of samples studied using atomic force microscopy (AFM) analysis.