بررسي اثر فوتورسانايي در نانوسيم هاي اكسيد مس (CuO) تهيه شده به روش اكسايش حرارتي

نانوسيم ­هاي اكسيد مس به روش اكسايش حرارتي در حضور هوا بر روي ورقه مس به دو شيوه پيوسته و پلكاني (نمونه هاي C456 و S456 ) در بازه دمايي C○ 400-600 تهيه شده ­اند. دريافتيم نانوسيم ­ها به صورت عمودي بر روي ورقه مسيي تشكيل شده اند. در بين اين نمونه ها نمونه C456 از شرايط بهينه اپتيكي (بازتاب كمتر و گاف نواري كوچكتر) برخوردار است. در اينن نمونه نانوسيم­ ها داراي قطر تقريبا 100nm و طولي در گستره 6-2 ميكرو متر هستند. اثر فوتورسانايي با استفاده از نور LED قرمزز در اين نمونه ­ها مورد بررسي قرار گرفت. مشخص شد كه نمونه C456 از حساسيت نوري بيشتري در مقايسه با S456 برخوردارر است.