تأثير پارامتر چرپ در تحول پالس در نانوسيم هاي سيليكوني با پاشندگي مهندسي شده

در اين مقاله تأثير پارامتر چرپ در تحول پالس در نانوسيم­هاي سيليكوني با پاشندگي مهندسي شده از طريق حل معادله غيرخطي شرودينگر با استفاده از نرم افزار متلب به روش فوريه گام مجزا بررسي مي­شود. با در نظر گرفتن پالس ورودي سكانت­هايپربوليك از مرتبه فمتوثانيه و نيز لحاظ كردن اثرات غيرخطي و ضريب پاشندگي مرتبه دوم و سوم بصورت تابعي از طول، تأثير پارامتر چرپ در انتشار پالس در طول نانوسيم، مورد مطالعه قرار مي­گيرد. نتايج نشان مي­دهد كه مقدار و علامت چرپ تاثير بسزايي در تحول پالس و بخصوص پهن شدگي آن در طول نانوسيم دارد بطوريكه مي­توان با افزودن چرپ مثبت به پالس ورودي پهن­شدگي را كاهش داد. لذا مي­توان با انتخاب مناسب پارامترهاي پالس، به گونه­اي انتشار پالس را كنترل كرد كه كمترين پهن­شدگي حين انتشار ايجاد شود.