طراحي و ساخت سه لايه WO3/Cu/WO3 به عنوان الكترود شفاف وسايل اپتوالكترونيكي و بررسي تأثير دماي بازپخت روي ويژگي هاي الكتريكي و اپتيكي آن

در اين كار ابتدا سه لايه ­اي WO3/Cu/WO3(WCW) طراحي و ضخامت هاي بهينه لايه­ ها براي رسيدن به مقاومت سطحي پايين و شفافيت اپتيكي بالا در ناحيه مرﺋﻲ محاسبه شد كه ضخامت هاي بهينه به صورت air/WO3(42nm)/Cu(12nm)/WO3(46nm)/glass به­ دست آمد.. سپس سه­­ لايه ­ايهاي WCW با ضخامت هاي بهينه محاسبه شده روي زير لايه­ هاي شيشه­ اي با روش تبخير حرارتي انباشت شدند. بعدد از لايه­ نشاني، نمونه­ ها در هوا در دماهاي 80، 150 و 220 درجه سانتيگراد بازپخت شدند و تأثير بازپخت در دماهاي مختلف بر رويي مقاومت سطحي و عبور اپتيكي در ناحيه مرﺋﻲ بررسي شد. در نهايت سه لايه­ اي WCW با مقاومت سطحي (□/Ω) 7 و تراگسيل در ناحيه مرﺋﻲ 77% و فاكتور شايستگي (mΩ-1)1/6 .براي بازپخت 150 درجه سانتيگراد به ­دست آمد.