طراحي و ساخت سامانه لايه نشاني چرخشي و فوتوليتوگرافي

Design and Fabrication of a table-top Spin-coater and UV-curing unit

انتقال الگو يكي از بخش هاي مهم اكثر فعاليت هاي تحقيقاتي در عرصه فيزيك نيمرساناها مي باشد. سامانه هاي تجاري انتقال الگو با توجه به دقت بسيار بالا قيمت هاي گزافي داشته و در دسترس همگان نمي باشند. طي اين پروژه، مجموعه لايه نشاني چرخشي و تابش دهي براي انتقال الگو مناسب بسياري از فعاليت هاي تحقيقاتي طراحي و ساخته شد. در راستاي آزمودن قابليت هاي اين مجموعه تعداد الگو به فوتورزيست نشانده شده بر زيرلايه شيشه اي منتقل گرديدند. ساخت اين مجموعه مستلزم هزينه زيادي نبوده و سامانه دقت قابل قبولي دارد. با سامانه پيشنهادي طرح هاي با دقت 10 ميكرومتر قابل انتقال مي باشند.

Lithography is an essential part of almost any scientific research and graduate level educational activity. Commercial photo-lithography setups are designed for high precision activities and as such are very expensive and thus inaccessible to many. In this work, we designed and built a photo-lithography setup suitable for many research laboratories. In order to test the system, a number of patterns were transferred to photo-resist thin layers deposited on glass substrates. The proposed system is easy to build –does not require much technical knowledge, inexpensive and has acceptable accuracy. Our tests have shown that with the proposed system, one could produce patterns with resolutions down to 10 μm. This limit could be lifted by using high quality masks or a simple optical reduction system