نانوليتوگرافي برروي لايه پليمري بوسيله AFM و بررسي اثر نيروي سوزن ميكروسكوپ برروي كيفيت الگوها

AFM nanolithography on a polymer film and the effect of tip force on the patterns quality

در اين كار پژوهشي با استفاده از دستگاه ميكروسكوپ نيروي اتمي (AFM) الگوهايي بروي لايه ماسك پليمر فوتورزيست كه برروي بستر LiTaO3 بروش لايه نشاني لايه نشاني گشته است،ايجاد گرديد . پليمر فوتورزيست به عنوان لايه ماسك در تكنولوژي ساخت قطعات ميكرو الكترونيك كاربرد دارد . در (spin coating)چرخشي برروي لايه ماسك ايجاد گرديد،همچنين اثر افزايش نيروي اعمال شده از طرف AFM نانومتر بوسيله نوك سوزن ميكروسكوپ 20 تا 5 اين فرايند الگوهايي در ابعاد نوك سوزن برروي عمق و كيفيت الگوها بررسي گرديد

In this work we have successfully fabricated patterns on the spin coated photoresist mask layer formed on the LiTaO3 substrate using atomic force microscopy. The photoresist polymers can be applied as a mask layer in nano electronic device technology. In this process, we have made patterns ranging from 5 to 20 nm in depth on the mask layer using AFM tip. The effect of increasing tip force on the depth of patterns was also studied.