مطالعه توپوگرافي و خواص ساختاري لايه‌هاي آمورف كربن نيكل با توزيع‌هاي متفاوت فلزي

در اين مقاله خواص ساختاري لايه هاي آمورف كربن نيكل ساخته شده از هدف­ هاي گرافيتي با مقادير مختلف نيكل از 87/1 تا 64/4 درصد مورد مطالعه قرار مي گيرند. توپوگرافي در لايه­ هاي انباشت شده در 178، 3/21 و 4/64 درصد داراي يك افت و خيزي حول يك نانومتر ولي در لايه­ هاي انباشت شده در 92/3 درصد داراي افت وخيزي حول 20 پيكومتر است. لايه­ هاي انباشت شده در 3/92 درصد داراي كمترين مقدار سد پتانسيل در حدود 00031/. الكترون ولت است. اين لايه ­ها همچنين داراي كمترين مقدار اندازه عرضي نانوذرات در حدود 40 نانومتر هستند. انباشت لايه­ ها داراي يك فرآيند گذار غيرفلز-فلز در 3/92 درصد است.

فاقد چكيده مي باشد