مرکز منطقه ای اطلاع رساني علوم و فناوري - IR laser-induced chemical vapour deposition of silicon oxycarbide phases from 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane

Title of article :

IR laser-induced chemical vapour deposition of silicon oxycarbide phases from 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane

Author/Authors :

Josef Pola، نويسنده , , Dana Pokorn?، نويسنده , , Zden k Bastl، نويسنده , , Jan ubrt، نويسنده ,

Issue Information :

روزنامه با شماره پیاپی سال 1996

Pages :

From page :

153

To page :

159

Keywords :

chemical vapour deposition , Si/C/H/O films , Laser induced decomposition , 1 , 3 , 1 , 3-TetramethyldisiloxaneArticle Outline

Journal title :

Journal of Analytical and Applied Pyrolysis

Serial Year :

1996

Journal title :

Journal of Analytical and Applied Pyrolysis

Record number :

188234

Link To Document :