IR laser photosensitized decomposition of trimethyl(2-propynyloxy)silane for chemical vapour deposition of polydimethylsiloxane phases

Markéta Urbanov?، نويسنده , , Hiroshi Morita، نويسنده , , Vladislav D ?nek، نويسنده , , Zden k Bastl، نويسنده , , Jan ubrt، نويسنده , , Josef Pola، نويسنده ,

روزنامه با شماره پیاپی سال 1997

8

219

226

Pyrolysiss , Trimethyl(2-propynyloxy)silane , Laser induced decomposition , Si/C/H/O films , Chemical vapour deposition

Journal of Analytical and Applied Pyrolysis

1997

Journal of Analytical and Applied Pyrolysis

188334