مرکز منطقه ای اطلاع رساني علوم و فناوري - Finite-length mask effects in the isolation oxidation of silicon

Title of article :

Finite-length mask effects in the isolation oxidation of silicon

Author/Authors :

J. D. EVANS، نويسنده , , A. B. TAYLER، نويسنده , , and J. R. KING ، نويسنده ,

Issue Information :

روزنامه با شماره پیاپی سال 1997

Pages :

From page :

121

To page :

146

Journal title :

I M A Journal of Applied Mathematics

Serial Year :

1997

Journal title :

I M A Journal of Applied Mathematics

Record number :

289588

Link To Document :