Title of article :
Halogen etching of Si via atomic-scale processes
Author/Authors :
C. M. Aldao، نويسنده , , J. H. Weaver، نويسنده ,
Issue Information :
روزنامه با شماره پیاپی سال 2001
Pages :
42
From page :
189
To page :
230
Journal title :
Progress in Surface Science
Serial Year :
2001
Journal title :
Progress in Surface Science
Record number :
342811
Link To Document :
https://search.isc.ac/dl/search/defaultta.aspx?DTC=10&DC=342811
بازگشت