TEM/CBED determination of strain in silicon-based submicrometric electronic devices

A. Armigliato، نويسنده , , R. Balboni، نويسنده , , S. Balboni، نويسنده , , S. Frabboni، نويسنده , , A. Tixier، نويسنده , , G. P. Carnevale، نويسنده , , P. Colpani، نويسنده , , G. Pavia ، نويسنده , , A. Marmiroli، نويسنده ,

روزنامه با شماره پیاپی سال 2000

7

203

209

convergent beam electron diffraction (CBED) , Process simulation codes , Local isolation structures(LOCOS) , Submicron devices , cross sections , Strain tensor , Transmission electron microscopy (TEM)

Micron

2000

Micron

356834