مرکز منطقه ای اطلاع رساني علوم و فناوري - Transmission electron microscopy investigation of the formation of C54

Title of article :

Transmission electron microscopy investigation of the formation of C54–TiSi2 phase on stressed (001)Si

Author/Authors :

S. L. Cheng، نويسنده , , S. M. Chang، نويسنده , , H. Y. Huang، نويسنده , , L. J. Chen ، نويسنده , , C. J. Tsai، نويسنده ,

Issue Information :

روزنامه با شماره پیاپی سال 2002

Pages :

From page :

543

To page :

547

Keywords :

auto-correlation function , STRESS , silicide , amorphous interlayer

Journal title :

Micron

Serial Year :

2002

Journal title :

Micron

Record number :

357032

Link To Document :