Application des réseaux de neurones à la modélisation des réacteurs de LPCVD: dépôt de silicium dopé in situ au bore

K. Fakhr-Eddine، نويسنده , , M. Cabassud، نويسنده , , M. V. Lann، نويسنده , , J. P. Couderc، نويسنده ,

روزنامه با شماره پیاپی سال 1999

12

171

182

Semi-conducteur , ReAacteurs , LPCVD

Chemical Engineering Journal

1999

Chemical Engineering Journal

365055