Extension du procédé de dépôt de silicium par CVD en lit fluidisé à des conditions opératoires peu conventionnelles: dépôts sur poudres poreuses et/ou sous pression réduite

J. R. Rodriguez Ruvalcaba، نويسنده , , B. Caussat، نويسنده , , M. Hémati et J.P. Couderc، نويسنده ,

روزنامه با شماره پیاپی سال 1999

6

61

66

fluidization , CVD , Reduced pressure , Porous powders , Silane , Silicon

Chemical Engineering Journal

1999

Chemical Engineering Journal

365070