مرکز منطقه ای اطلاع رساني علوم و فناوري - An order(N) tight-binding molecular dynamics study of intrinsic defect diffusion in silicon

Title of article :

An order(N) tight-binding molecular dynamics study of intrinsic defect diffusion in silicon

Author/Authors :

Bruce W. Roberts، نويسنده , , Weiwei Luo، نويسنده , , Kurt A. Johnson، نويسنده , , Paulette Clancy، نويسنده ,

Issue Information :

روزنامه با شماره پیاپی سال 1999

Pages :

From page :

To page :

Keywords :

ntrinsic defect diffusion , Silicon , Tight-binding molecular dynamics

Journal title :

Chemical Engineering Journal

Serial Year :

1999

Journal title :

Chemical Engineering Journal

Record number :

365095

Link To Document :