Radiation-stimulated modification of C60 films on Si-oxide surfaces

A.M. Shikin، نويسنده , , S.I. Fedoseenko، نويسنده , , I.M. Aliev، نويسنده , , V.K. Adamchuk، نويسنده , , S. Danzenb?cher and S.L. Molodtsov، نويسنده ,

روزنامه با شماره پیاپی سال 2005

9

142

150

Silicon oxide , Photoelectron spectroscopy , Near-edge X-ray absorption fine structure (NEXAFS) , synchrotron radiation , Fullerenes

JOURNAL OF ELECTRON SPECTROSCOPY & RELATED PHENOMENA

2005

JOURNAL OF ELECTRON SPECTROSCOPY & RELATED PHENOMENA

380529