Fundamental characteristics of electrostatic wafer chuck with insulating sealant

K.  Yatsuzuka، نويسنده , , K.، نويسنده , , Hatakeyama، نويسنده , , F.، نويسنده , , Asano، نويسنده , , K.، نويسنده , , S. Aonuma، نويسنده , , S.، نويسنده ,

روزنامه با شماره پیاپی سال 2000

7

510

516

wafer handling. , Dielectric layer , Electrostatic force , silicon wafer

IEEE Transactions on Industry Applications

2000

IEEE Transactions on Industry Applications

380968