Title of article
Fundamental characteristics of electrostatic wafer chuck with insulating sealant
Author/Authors
K. Yatsuzuka، نويسنده , , K.، نويسنده , , Hatakeyama، نويسنده , , F.، نويسنده , , Asano، نويسنده , , K.، نويسنده , , S. Aonuma، نويسنده , , S.، نويسنده ,
Issue Information
روزنامه با شماره پیاپی سال 2000
Pages
7
From page
510
To page
516
Keywords
wafer handling. , Dielectric layer , Electrostatic force , silicon wafer
Journal title
IEEE Transactions on Industry Applications
Serial Year
2000
Journal title
IEEE Transactions on Industry Applications
Record number
380968
Link To Document