Title of article
Removal of NF3 from semiconductor-process flue gases by tandem packed-bed plasma and adsorbent hybrid systems
Author/Authors
Jen-Shih Chang، نويسنده , , Kostov، نويسنده , , K.G.، نويسنده , , Urashima، نويسنده , , K.، نويسنده , , Yamamoto، نويسنده , , T.، نويسنده , , OKAYASU، H. نويسنده , , Y.، نويسنده , , Kato، نويسنده , , T.، نويسنده , , Iwaizumi، نويسنده , , T.، نويسنده , , Yoshimura، نويسنده , , K.، نويسنده ,
Issue Information
روزنامه با شماره پیاپی سال 2000
Pages
9
From page
1251
To page
1259
Keywords
NF3 , CaCO3 , Adsorbent , Flue Gas , cleaning process , Packed bed , Plasma , semiconductor.
Journal title
IEEE Transactions on Industry Applications
Serial Year
2000
Journal title
IEEE Transactions on Industry Applications
Record number
381064
Link To Document