Removal of NF3 from semiconductor-process flue gases by tandem packed-bed plasma and adsorbent hybrid systems

Jen-Shih Chang، نويسنده , , Kostov، نويسنده , , K.G.، نويسنده , , Urashima، نويسنده , , K.، نويسنده , , Yamamoto، نويسنده , , T.، نويسنده , , OKAYASU، H. نويسنده , , Y.، نويسنده , , Kato، نويسنده , , T.، نويسنده , , Iwaizumi، نويسنده , , T.، نويسنده , , Yoshimura، نويسنده , , K.، نويسنده ,

روزنامه با شماره پیاپی سال 2000

9

1251

1259

NF3 , CaCO3 , Adsorbent , Flue Gas , cleaning process , Packed bed , Plasma , semiconductor.

IEEE Transactions on Industry Applications

2000

IEEE Transactions on Industry Applications

381064