Curve evolution models for real-time identification with application to plasma etching

Berg، نويسنده , , J.، نويسنده , , Anthony Yezzi، نويسنده , , A.، نويسنده , , Tannenbaum، نويسنده , , A. ، نويسنده ,

روزنامه با شماره پیاپی سال 1999

4

99

102

level set methods , parameter estimation , Process modeling , semiconductor manufacturing. , Curve evolution , plasma etching

IEEE Transactions on Automatic Control

1999

IEEE Transactions on Automatic Control

385088