The Effect of Substrate Temperature on the Properties of Nanostructured Silicon Carbide Films Deposited by Hypersonic Plasma Particle Deposition

J. Blum، نويسنده , , N. Tymiak، نويسنده , , A. Neuman، نويسنده , , Z. Wong، نويسنده , , N.P. Rao، نويسنده , , S.L. Girshick، نويسنده , , W.W. Gerberich، نويسنده , , P.H. McMurry ، نويسنده , , J.V.R. Heberlein ، نويسنده ,

روزنامه با شماره پیاپی سال 1999

12

31

42

silicon carbide , nanostructural film , Thermal plasma , Particle deposition , Nanoparticles , film hardness

Journal of Nanoparticle Research

1999

Journal of Nanoparticle Research

389906