Title of article :
Technical Note: Concepts for protection of EUVL masks from particle contamination
Author/Authors :
Christof Asbach، نويسنده , , F. Einar Kruis and Heinz Fissan، نويسنده , , Jung Hyeun Kim، نويسنده , , Se-Jin Yook ، نويسنده , , David Y. H. Pui ، نويسنده ,
Issue Information :
روزنامه با شماره پیاپی سال 2006
Pages :
4
From page :
705
To page :
708
Keywords :
EUVL mask , Nanoelectronics , Thermophoresis , electrophoresis , nanoparticle contamination
Journal title :
Journal of Nanoparticle Research
Serial Year :
2006
Journal title :
Journal of Nanoparticle Research
Record number :
390377
Link To Document :
https://search.isc.ac/dl/search/defaultta.aspx?DTC=10&DC=390377
بازگشت