Author/Authors :
Tsutsui، نويسنده , , G.، نويسنده , , Saitoh، نويسنده , , M.، نويسنده , , Hideo Nagumo، نويسنده , , T.، نويسنده , , Hiramoto، نويسنده , , T، نويسنده ,
Keywords :
Quantum confinement effects , silicon-on-insulator(SOI) thickness fluctuation , substrate bias , ultra-thin body (UTB) SOI MOSFET. , threshold voltagevariation