Title of article :
Impact of SOI thickness fluctuation on threshold voltage variation in ultra-thin body SOI MOSFETs
Author/Authors :
Tsutsui، نويسنده , , G.، نويسنده , , Saitoh، نويسنده , , M.، نويسنده , , Hideo Nagumo، نويسنده , , T.، نويسنده , , Hiramoto، نويسنده , , T، نويسنده ,
Issue Information :
روزنامه با شماره پیاپی سال 2005
Pages :
5
From page :
369
To page :
373
Keywords :
substrate bias , Quantum confinement effects , ultra-thin body (UTB) SOI MOSFET. , threshold voltagevariation , silicon-on-insulator(SOI) thickness fluctuation
Journal title :
IEEE Transactions on Nanotechnology
Serial Year :
2005
Journal title :
IEEE Transactions on Nanotechnology
Record number :
398743
Link To Document :
بازگشت