Title of article :
Modeling and experimental validation of sharpening mechanism based on thermal oxidation for fabrication of ultra-sharp silicon nanotips
Author/Authors :
Agache، نويسنده , , V.، نويسنده , , Ringot، نويسنده , , R.، نويسنده , , Joao F. Bigotte ، نويسنده , , P.، نويسنده , , Senez، نويسنده , , V.، نويسنده , , Legrand، نويسنده , , B.، نويسنده , , Buchaillot، نويسنده , , L.، نويسنده , , Collard، نويسنده , , D.، نويسنده ,
Issue Information :
روزنامه با شماره پیاپی سال 2005
Pages :
9
From page :
548
To page :
556
Keywords :
Dry oxidation , sharpening effect , silicon tips , stress effects , thermal oxidation.
Journal title :
IEEE Transactions on Nanotechnology
Serial Year :
2005
Journal title :
IEEE Transactions on Nanotechnology
Record number :
398768
Link To Document :
بازگشت