Title of article :
Nanopatterning with interferometric lithography using a compact /spl lambda/=46.9-nm laser
Author/Authors :
Capeluto، نويسنده , , M.G.، نويسنده , , Vaschenko، نويسنده , , G.، نويسنده , , Grisham، نويسنده , , M.، نويسنده , , Marconi، نويسنده , , M.C.، نويسنده , , Luduena، نويسنده , , S.، نويسنده , , Pietrasanta، L. نويسنده , , L.، نويسنده , , Yunfeng Lu، نويسنده , , Parkinson، نويسنده , , B.، نويسنده , , Menoni، نويسنده , , C.S.، نويسنده , , Rocca، نويسنده , , J.J.، نويسنده ,
Issue Information :
روزنامه با شماره پیاپی سال 2006
Pages :
5
From page :
3
To page :
7
Keywords :
Photolithography , NANOTECHNOLOGY , X-ray lasers , X-ray lithography.
Journal title :
IEEE Transactions on Nanotechnology
Serial Year :
2006
Journal title :
IEEE Transactions on Nanotechnology
Record number :
398796
Link To Document :
بازگشت