Title of article
Processing dependent behavior of soft imprint lithography on the 1-10-nm scale
Author/Authors
Feng Hua، نويسنده , , Gaur، نويسنده , , A.، نويسنده , , Yugang Sun، نويسنده , , Word، نويسنده , , M.، نويسنده , , Niu Jin، نويسنده , , Adesida، نويسنده , , I.، نويسنده , , Shim، نويسنده , , M.، نويسنده , , Shim، نويسنده , , A.، نويسنده , , Rogers، نويسنده , , J.A، نويسنده ,
Issue Information
روزنامه با شماره پیاپی سال 2006
Pages
8
From page
301
To page
308
Keywords
Imprint lithography , next generation lithography , poly(dimethylsiloxane) (PDMS) , polymer physics , replica molding.
Journal title
IEEE Transactions on Nanotechnology
Serial Year
2006
Journal title
IEEE Transactions on Nanotechnology
Record number
398843
Link To Document