Title of article :
Impact of Structure Relaxation on the Ultimate Performance of a Small Diameter, n-Type $langle 110 rangle$ Si-Nanowire MOSFET
Author/Authors :
Liang، نويسنده , , G.، نويسنده , , Kienle، نويسنده , , D.، نويسنده , , Patil، نويسنده , , Skr?ppa، Tore نويسنده , , Jing Wang، نويسنده , , Ghosh، نويسنده , , A.W.، نويسنده , , Khare، نويسنده , , S.V، نويسنده ,
Issue Information :
روزنامه با شماره پیاپی سال 2007
Pages :
5
From page :
225
To page :
229
Keywords :
Bandstructure , Quantum confinement , Geometry optimization , tightbinding. , nanowire , field-effect transistor (FET)
Journal title :
IEEE Transactions on Nanotechnology
Serial Year :
2007
Journal title :
IEEE Transactions on Nanotechnology
Record number :
398934
Link To Document :
بازگشت