مرکز منطقه ای اطلاع رساني علوم و فناوري - Development of a confined pulse-jet particle cleaning technology for semiconductor wafers

Title of article :

Development of a confined pulse-jet particle cleaning technology for semiconductor wafers

Author/Authors :

H. Chein، نويسنده , , T-Y Huang، نويسنده , , C-J. Tsai، نويسنده ,

Issue Information :

ماهنامه با شماره پیاپی سال 1998

Pages :

From page :

859

To page :

860

Keywords :

Particle Cleaning , Semiconductor Wafers , Pulse-Jet

Journal title :

Journal of Aerosol Science

Serial Year :

1998

Journal title :

Journal of Aerosol Science

Record number :

741738

Link To Document :