مرکز منطقه ای اطلاع رساني علوم و فناوري - Chemical vapor deposition of titanium dioxide thin films on quartz silicon and porous ceramic (silica/alumina) substrates

Title of article :

Chemical vapor deposition of titanium dioxide thin films on quartz silicon and porous ceramic (silica/alumina) substrates

Author/Authors :

Shu-Chuan Huang، نويسنده , , Ton-Fong Lin، نويسنده , , Shih-Yuan Lu، نويسنده , , Kan-Sen Chou ، نويسنده ,

Issue Information :

ماهنامه با شماره پیاپی سال 1998

Pages :

From page :

242

To page :

242

Journal title :

Journal of Aerosol Science

Serial Year :

1998

Journal title :

Journal of Aerosol Science

Record number :

742027

Link To Document :