Title of article :
Characteristics of Ir etching using Ar/Cl2 inductively coupled plasmas
Author/Authors :
SE-GEUN PARK، نويسنده , , CHIN-WOO KIM، نويسنده , , Ho-Young Song، نويسنده , , HYOUN WOO KIM، نويسنده , , JU HYUN MYUNG، نويسنده , , SUKHO JOO، نويسنده , , SOON OH PARK، نويسنده , , KYU-MANN LEE، نويسنده ,
Issue Information :
دوهفته نامه با شماره پیاپی سال 2005
Pages :
2
From page :
5015
To page :
5016
Journal title :
Journal of Materials Science
Serial Year :
2005
Journal title :
Journal of Materials Science
Record number :
830241
Link To Document :
https://search.isc.ac/dl/search/defaultta.aspx?DTC=10&DC=830241
