Title of article :
Correlation between the carbon and hydrogen contents with the gas species and the plasma impedance of silicon carbide films produced by PECVD technique
Author/Authors :
R. Martins، نويسنده , , V. Silva، نويسنده , , H. ?guas، نويسنده , , A. Cabrita، نويسنده , , I. Ferreira، نويسنده , , E. Fortunato، نويسنده ,
Issue Information :
روزنامه با شماره پیاپی سال 2001
Abstract :
R. Martins, V. Silva, H. Águas, A. Cabrita, I. Ferreira, E. Fortunato
Keywords :
Plasma diagnostics , Plasma impedance , Amorphous silicon carbide
Journal title :
Applied Surface Science
Journal title :
Applied Surface Science
