عنوان :
مطالعه مكانيزيم برهم كنش اكسيژن با سطح Si 111 با استفاده از طيف نگاري اوژه
ناشر :
دانشگاه صنعتي شريف ، دانشكده فيزيك
كليدواژه :
اكسيژن , مكانيزم برهم كنش , سطح }Si)111({ , طيف نگاري اوژه
چكيده :
هدف از طرح مطالعه تجربي اكسيداسيون }Si{ از يك ديدگاه ميكروسكوپي است نمونه هاي }Si)111({ به روش شيميايي لايه برداري و اكسيد شدند سپس در سيستم خلا فرازياد })UHV({ مجهز به دستگاههاي اسپكترومتر اوژه ، پراش الكترونهاي كم انرژي })LEED/AES({ و اسپكترومتر جرمي قرار گرفت ...