خواص نوري، ساختاري و مورفولوژي نانو ساختار لايه نازك ZnO در ساختار چند لايه اي ZnO/Al2O3/SiO2 لايه نشاني شده توسط روش كندوپاش RF

Optical , structural and morphological properties of ZnO nanostructural thin films in ZnO/Al2O3/SiO2 multilayer deposited by RF sputtering

لايه هاي نازك اكسيد روي (ZnO) بر روي زير لايه هاي PET كه از پيش با ساختار چند لايه اي Al2O3/SiO2 پوشانده شده ، توسط روش كندو پاش RF در حضور پلاسماي آرگون ، در توانهاي RF مختلف ، لايه نشاني گرديده و ساختار كريستالي، مورفولوژي سطح، عبور نوري لايه ها در ناحيه مرئي به ترتيب توسط آناليزهاي: SEM , XRD و طيف سنجي UV/VIS/IR بررسي شده است. نتايج نشان مي دهد كه رشد لايه ها در جهت كريستالي ( 002 ) بوده و متوسط عبور نوري لايه ها بالاي 85 % است . با افزايش توان عبور نوري لايه هاي اكسيد روي در ناحيه مرئي و شدت كريستالي لايه ها افزايش مي يابد. انرژي نوار ممنوعه نوري بين (ev)3/39-3/31 در توانهاي مختلف RF تغيير مي كند.

ZnO thin films are deposited on PET substrates by RF sputtering in argon atmosphere. PET substrates coated with Al2O3/SiO2 multilayer. Optical structural and morphological properties of ZnO thin films deposited with different RF power are investigated using UV/Visible spectrophotometer, X-Ray Diffractometer and scanning electron microscopy (SEM) respectively. Results show ZnO thin films have (002) preferred Orientation and crystallinity and average transmittance in the visible region(>85%) increased with increasing RF power. Optical band gap energy varied between 3.29-3.31 ev at different RF power.