بررسي تاثيرات ميدان مغناطيسي بر روي لايه هاي نازك مس انباشته شده توسط پراكنش ميدان مغناطيسي DC

The effect of magnetic field in Cu thin film production of DC magnetron sputtering

در اين مقاله تغييرات ميدان مغناطيسي خارجي اعمال شده به دستگاه DC مگنترون، براي انباشت لايه هاي نازك مس روي شيشه مورد بررسي قرار گرفته است . با استفاده از ميكروسكوپ پروپ روبشي 1 اندازه دانه ها، توپوگرافي وزمختي لايه ها بررسي شدند . ساختار لايه هاي نازك تهيه شده و اندازه بلورك ها با روش پراش پرتوهاي ايكس 2 تعيين شد . همچنين ضخامت لايه هاي انباشت شده با كمك روش پس پراكندگي رادرفورد 3 مورد بررسي قرار گرفت . با استفاده از نتايج حاصل از اين آناليزها ، اندازه بلورك ها و ضخامت لايه ها تعيين شد . آزمايش هاي انجام شده بيانگر كاهش زمختي و افزايش ضخامت لايه ها همراه با افزايش ميدان مغناطيسي و آهنگ انباشت بوده است . همچنين با گرم كردن زيرلايه ها با روش بازپخت، در جهت هاي ترجيحي (111) و (200) رشد مشاهده كرديم بعلاوه افزايش اندازه دانه ها و ميزان زمختي سطح لايه ها همراه با كاهش ضخامت بعد از بازپخت بوده اند.

The effect of magnetic field on production of Cupper thin films have been studied so that Cu films were deposited on glass substrates without heating by DC magnetron sputtering in pure Argon gas. The coil current has increased from 2A to 9A. Additionally, X-Ray diffraction, RBS and Atomic Force Microscopy were employed to observe the structural characterization of the films. The results show that there is an optimum magnetic field for the maximum sputtering rate and Surface properties could be affected by this experiment dramatically