دستكاري و ليتوگرافي اكسيداسيون موضعي گرافن با استفاده از ميكروسكوپ نيروي اتمي (AFM)

(Manipulation and Graphene Local Oxidation Lithography Using an Atomic Force Microscope(AFM

در اين كار، با استفاده از تكنيك نانوليتوگرافي دستگاه SPM در مد AFM دستكاري و حكاكي روي گرافن در مقياس نانو، به منظور ايجاد نانوساختارهاي الكترونيكي صورت گرفته است. بوسيله اكسيداسيون موضعي كه يك فرآيند الكتروشيميايي است، با اعمال يك ولتاژ در پروب AFM نسبت به سطح گرافن، ما قادر به ايجاد و ساخت شيارهاي مجزا بر روي ورقه هاي تك و چندلايه از گرافن هستيم. با استفاده از اين تكنيك ايجاد شيارهايي با پهناي كمتر از 30 نانومتر قابل دسترسي مي باشند، همچنين علاوه بر اكسيداسيون، تأثير پوسته پوسته شدن مكانيكي و ايجاد خراش با يك AFM بواسطه ورقه ورقه كردن گرافن، مورد بررسي قرار گرفت.

in this work,SPM nanolithography in AFM mode was used to etching and manipulate graphene films on a nanoscopic length scale in order to produce electronic nanostractures. By means of local anodic oxidation with an AFM which is an electrochemical process applying voltage between afm probe and grapheme surface, we are able to structure isolating trenches into single-layer and few-layer graphene flakes. Trench sizes of less than 30 nm in width are attainable with this technique. Besides oxidation, the influence of mechanical peeling and scratching with an AFM of few layer graphene sheets was investigated