بررسي خواص الكتريكي و مورفولوژي سطحي در اكسيد قلع آلائيده با نيتروژن به روش APCVD

Investigation Of Electrical Properties an‎d Surface Morphology In Nitrogen Doped Tin Oxide By APCVD Method

در اين مقاله فيلمهاي SnO2 الائيده با نيتروژن به روش نهشت بخار شيميايي در فشار هوا آماده شد. تاثير آلايش نيتروژن در دماهاي مختلف زيرلايه روي خواص الكتريكي نمونه ها با استفاده از اندازه گيري هال انجام شد. با توجه به آناليز XPS، جابجايي به سمت انرژيهاي پايينتر پس از آلايش با نيتروژن مي تواند به دليل تشكيل پيوند O-Sn-N باشد. آناليز FESEM افزايش اندازه دانه در نتيجه افزايش دماي زيرلايه و غلظت آلايش را در نمونه ها نشان داد.

In this paper, N doped SnO2 films via air pressure chemical vapor deposition technique was prepared. Effect of nitrogen doping in different substrate temperatures on electrical properties of the samples were analyzed by Hall measurement. With respect to the XPS analysis, shift toward lower energies after nitrogen doping can be due to formation of O-Sn-N bonding. FESEM analysis showed increase of grain size due to substrate temperature and doping concentration increasing in samples