بررسي تاثير جنس زير لايه و درصد گاز نيتروژن بر خصوصيات لايه نازك نيتريد مس

Effect of substrate and amount of nitrogen gas on characterization of copper nitride thin films

لايه هاي نازك نيتريد مس بر روي زير لايه هاي سيليكون و شيشه به روش اسپاترينگ مغناطيسي جريان مستقيم فعال در درصد هاي متفاوتي از گاز نيتروژن و آرگون در دماي اتاق تهيه گرديد. مقادير متفاوت نيتروژن بر خصوصيات ساختاري، مرفولوژيك و الكتريكي لايه هاي نيتريد مس رشد يافته بر روي هر دو زير لايه تاثير گذاشت. تغيير مقدار نيتروژن در گاز كاري باعث تغيير جهت ترجيهي ساختار بلوري نيتريد مس گرديد. مقاومت سطحي لايه هاي نبريد مس به شدت متاثر از ساختار سطحي لايه ها و همچنين مقادير مقاومت سطحي متاثر از جنس زير لايه است.

Copper nitride films were prepared on silicon and glass substrates by reactive direct current magnetron sputtering at various Nz-gas partial pressures at room temperature. The N2 partial pressure influenced the structural, morphological and electrical properties of the deposited films. The X-ray diffraction measurement showed the phase change of the preferred orientation of CuzN planes of samples. The surface resistivity strongly affected by structures and substrate of the films