تاثير توان كند و پاش روي خواص ساختاري و مورفولوژي لايه هاي نازك آلومينيوم انباشتي بر روي زير لايه هاي سيليكون و كوارتز

The effect of sputtering power on structural and morphological properties of Al thin films deposited on Si and Quartz substrate

دراين تحقيق لايه هاي نازك آلومينيوم بوسيله كند و پاش مغناطيسي DC در توان هاي انباشت متفاوت بر روي زير لايه هاي سيليكون و كوارتز در دماي اتاق لايه نشاني شده اند. براي بررسي خواص ساختاري و مورفولوژي سطح به ترتيب از آناليزهاي پراش پرتو X و ميكروسكوپ نيروي اتمي AFM استفاده شده است و از تكنيك پروپ چهارنقطه (FPP) نيز براي بررسي مقاومت سطحي نمونه ها بهره گرفته شده است. در ضمن ضخامت لايه ها نيزتوسط پروفايل متر اندازه گيري شده است. نتايج نشان مي دهد كه با افزايش توان كندوپاش خاصيت كريستالي لايه ها بهبود يافته و همچنين مورفولوژي سطح نيز تحت تاثير توان انباشت و نوع زيرلايه قرار گرفته است، با افزايش توان كندوپاش ضخامت لايه ها افزايش يافته و مقاومت سطحي لايه ها نيز روند كاهشي را نشان مي دهند.

In this paper the Aluminum (Al) thin films were deposited on silicon and quartz substrates using a DC magnetron sputtering system at different sputtering powers .For investigation of films structural and morphological properties the XRD and AFM analysis were employed. The four point probe technique and surface profilometer were used for measuring the films sheet resistivity and films thickness respectively. The results show that by increasing the sputtering power the films crystallinties were improved. Also the substrate and sputtering power had an effective influence on the films surface morphology. Also by increasing the sputtering power the films thickness were increased and the films sheet resistivity decreased