بررسي ساختار و مشخصه هاي مغناطو مقاومت در چندلايه اي هاي الكترو انباشت Ni-Cu/Cu

Investigation of structure and magnetoresistance characteristics in electrodeposited Ni Cu/Cu multilayers

در اين پژوهش ابتدا چندلايه اي هاي Ni - Cu / Cut به روش الكترو انباشت از محلول نيكل سولفاميت در مد گالوانواستات /پتانسيواستات تهيه شد. پس از آن، مشخصه هاي مغناطو مقاومت چندلايه اي ها در دماي اتاق به عنوان تابعي از ضخامت لايه ي فرو مغناطيس ( Ni - Cut ) و غير مغناطيس (Cu) بررسي شد و بيشينه ي مقدار مغناطو مقاومت بزرگ (GMR) براي چندلايه اي Ni - Cu / Cut با ضخامت x1rn1 / 4 . 2 mm 3 . 0 به دست آمد. در نهايت وابستگي دمايي مغناطو مقاومت چندلايه ايها از دماي 13 كلوين تا 300 كلوين مورد بررسي قرار گرفت. كاهش مغناطو مقاومت با افزايش دما بر اساس پراكندگي الكتروني ناشي از نوسانات اسپيني مورد بحث قرار گرفت. بررسي هاي XRD و TEM نيز ساختارهاي لايه مانند با ضخامت نانومتري را تأييد كرده است.

In this research at first Ni-Cu/Cu multilayers have been grown by electrodeposition method from a Ni-sulfamate solution with galvanostat/potentiostat condition. Then, magnetoresistance (MR) characteristics of the multilayers were investigated as a function of the ferromagnetic (Ni-Cu) and nonmagnetic (Cu) layer thicknesses at room temperature and the maximum giant magnetoresistance (GMR) value was obtained for NiCu/Cu multilayer with 3.0 nm/4.2 nm thickness. Finally the temperature dependence of the MR for multilayers were investigated at the temperature increasing from 13K to 300K. Decreasing the MR with increasing spin fluctuation. The XRD and TEM temperature discussed according to electron scattering due to investigations also confirmed the multilayered structure with the nanometer thicknesses