تعيين حد شاريدگي با استفاده از مدل فتو حرارتي به منظور توصيف برهم كنش ليزر XeCl با پلي اترسولفون

The fluence limit validity of photothermal model in XeCl laser ablation of polyethersulfone film

امروزه كندگي ليزري پليمرها به دليل اهميت آن در صنايع مختلف مورد توجه بسياري از محققان است.در حالت كلي كندگي ليزري پليمرها تحت دو فرايند فتوشيميايي يا فتو حرارتي و يا تركيبي از هردو صورت ميپذيرد. هريك از اين دو فرايند، تحت دو مدل سطحي و حجمي فرمول بندي مي شوند كه در اين مقاله براي محاسبه كندگي ليزري پليمرها در فرايندهاي فتوحرارتي سطحي به حل معادلات مربوطه با ارائه روش هاي محاسباتي براي شبيه سازي ديناميك و سينتيك در توصيف كندگي پليمر پلياترسولفون با ليزر XeCl پرداخته ايم.

Nowadays laser ablation of polymers has received more attention by researchers for its importance in different industries. Polymer ablation is typically described in terms of thermal, photothermal, or photochemical models, either individually or combined. Photochemical and thermal models can be further categorized as volume and surface models. In this paper after introducing the models for laser ablation of polymers, the fluence limit validity of photo-thermal model in XeCl laser ablation of polyethersulfone was obtained