شماره ركورد كنفرانس :
3632
عنوان مقاله :
Fabrication of P-Type Microcrystalline Silicon Thin Film by Magnetron Sputtering and Copper Induced Crystallization
پديدآورندگان :
Jian Wang ,
كليدواژه :
microcrystalline silicon thin film , magnetron sputtering , copper induced crystallization , characterization
كشور :
ايران
نويسنده :
Omid Shekoofa
كلمات كليدي :
microcrystalline silicon thin film; magnetron sputtering; copper induced crystallization; characterization
لينک به اين مدرک :
https://search.ricest.ac.ir/dl/search/defaultta.aspx?DTC=36&DC=174205