شماره ركورد كنفرانس :
3356
عنوان مقاله :
بررسي تاثير دماي پوشش دهي بر روي خواص ساختاري، فازي و مورفولوژي پوشش نانو ساختار كاربيد تيتانيوم اعمال شده با فرايند پلاسما CVD پالسي
عنوان به زبان ديگر :
Effect of operating temperature on structural properties, phase and morphology of nanostructured titanium carbide applied by pulsed plasma CVD
پديدآورندگان :
شانقي علي دانشگاه تربيت مدرس , صبور روح اقدم عليرضا دانشگاه تربيت مدرس , آهنگراني شاهرخ سازمان پژوهشهاي علمي و صنعتي ايران , مرادي هادي پژوهشكده مواد
كليدواژه :
خواص ساختاري , دماي پوشش دهي , پالسي , پلاسما CVD , ساختار , پوشش نانو
عنوان كنفرانس :
پنجمين همايش مشترك انجمن مهندسين متالورژي و جامعه علمي ريخته گري ايران
چكيده فارسي :
پوشش نانو ساختار كاربيد تيتانيوم به دليل در بر داشتن خواص مقاومت به سايشي عال داراي كاربرد گسترده اي در صنايع مي باشد. پارامترهاي مختلفي در اعمال پوشش كاربيد تيتانيوم به روش پلاسما CVD موثر مي باشند، همانند دماي پوشش دهي، چرخه كاري و نسبت گازي. بنابراين، در ين تحقيق با استفاده از روش پلاسما CVD پالسي يك لايه نازك و نانو ساختار كاربيد تيتانيوم (TiCx) بر روي زمينه فولادي (H11) اعمال گشته و سپس تاثير دماي پوشش دهي بر روي خواص ساختاري و فازي پوشش با استفاده از AFM و XRD و SEM مورد بررسي قرار گرفته است. نتايج نشان دهنده، تشكيل يك لايه همگن و يكنواخت نانو ساختار كاربيد تيتانيوم با اندازه ذرات 7 نانو متر در دماي 490 درجه سانتيگراد و چرخه كاري 33 درصد است.
چكيده لاتين :
Nano-structured titanium carbide coatings have been found the widespread use in the industry for excellent
abrasion resistance properties. Various parameters of the plasma CVD method may be effective properties of
titanium carbide coatings, such as operating temperature, duty cycle and ratio of gases. Therefore, in this study
nano-structured titanium carbide (TiCx) coating were deposited on the steel (H11) by using a pulsed plasma
CVD, and then the effect of operating temperature on the structural properties and phase have been studied by
using SEM, XRD and AFM. The results indicate the formation of a homogeneous and uniform layer of nanostructured
titanium carbide particles with a size of 7nm at 490 °C and the duty cycle is 33%.