بررسي تاثير عمليات آلتراسونيك بر توليد نانو سيم هاي كبالت به روش رسوب دهي الكتروشيميايي جريان متناوب در داخل تمپليت اكسيد آلومينيوم

Effect of ultrasonic on fabrication of Cobalt Nanowires by AC Electrodeposition method in Anodic Aluminum Oxide

آرايه نانو سيم هاب كبالت با روش هاي مختلفي توليد مي شوند كه يكي از روش هاي بهينه آن رسوب دهي الكتروشيميايي در داخل تمپليت هاي اكسيد آلومينوم منظم (AAO) با حفرات نانومتري هستند. در اين تحقيق تمپليت اكسيد آلومينيوم منظم به روش آندايزينگ دو مرحله اي در اسيد اگزاليك توليد شد. نانو سيم هاي كبالت به روش لايه نشاني الكتروشيميايي جريان متناوب در داخل تمپليت منظم اكسيد آلومينيوم ساخته شدند. تاثير اعمال امواج فراصوتي (آلتراسونيك) بر رشد نانو سيم ها مورد بررسي قرار گرفت. جهت بررسي نحوه آندايزينگ و رشد لايه اكسيدي و نحوه رسوب دهي نانو سيم ها از منحني هاي جريان - زمان استفاده گرديد. مورفولوژي سطح تمپليت اكسيد آلومينيوم منظك و نانو سيم هاي كبالت توليد شده با استفاده از ميكروسكوپ الكتروني روبشي گسيل ميداني (FESEM) مورد بررسي قرار گرفت. ريز ساختار نانو سيم ها با استفاده از پراش اشعه ايكس (XRD) مورد بررسي قرار گرفته است. مطالعات نشان دهنده تاثير گسترده امواج فراصوتي بر ساختار لايه اكسيدي، منحني هاي جريان-زمان و رشد نانوسيم ها مي باشد. بطوريكه عدم استفاده از آن سبب كاهش سرعت نانو سيم ها و افزايش توان آلتراسونيك سبب شكست لايه اكسيدي در حين رسوب دهي و اعمال امواج فراصوتي مي شود.

Cobalt nanowire arrays are fabricated by different methods in which the optimum one is electrodepositioning in anodic aluminum oxide (AAO). In this study, ordered aluminum oxide templates were produced by two stage anodizing in oxalic acid. Then, Cobalt nanowires were electrodeposited by AC electrodeposition methode in AAO. The effect of ultrasonic waves were evaluated on nanowires growth. In order to investigate Anodizing condition, AAO layer growth and nanowires deposition, current-time curves was used. Surface morphology of AAO templates and cobalt nanowires were studied using field emission scanning electron microscope (FESEM). Microstructure of nanowires was studied by X-ray diffraction (XRD). Results show that ultrasonic waves have a major effect on oxide layer structure, current- time curves and nanowires growth, since elecrodepositioning without applying ultrasonic waves were decreased the rate of oxide layers growth. an‎d ultrasonic power increase cause oxide layer failure during electrodeposition and ultrasonic process.